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    金屬標牌真空電鍍處理工藝詳解-青島大東標牌制作廠家 發(fā)表時間:2021-06-22

      大家都知道電鍍處理是標牌制作常用的工藝,電鍍處理方式又分為兩種:有水電鍍和真空電鍍,水電鍍是最常用的電鍍方式,而真空電鍍用的相對少一些,所以很多人對真空電鍍比較陌生,那么青島大東電子有限公司帶大家了解真空電鍍的相關知識。

      真空電鍍采用在真空條件下,通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜,通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層,真空電鍍同時具有速度快、附著力好的優(yōu)點,但是價格也會較高一些,一般用來做較高檔產品的功能性鍍層,比如金屬標牌處理。

      真空電鍍的工藝現在已經是一種比較流行的做法,用真空電鍍做出來的產品金屬質感強,亮度高,外觀精致。而相對其他的鍍膜法來說,真空電鍍工藝成本較低,對環(huán)境的污染小,現在為各行業(yè)廣泛采用。

      真空電鍍工藝是在高度真空條件下加熱金屬,使其熔融、蒸發(fā),冷卻后在塑料表面形成金屬薄膜的方法。

      真空電鍍工藝的特點:

      1、真空電鍍工藝可以解決七彩色的問題,比如閃銀、魔幻藍、裂紋、水滴銀等五花八門的七彩色。

      2、真空電鍍工藝使用的鍍層材質廣泛、能夠符合環(huán)保要求。

      3、沉積材料比較廣泛,可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬,通以反應氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層,而且可以根據需要設計涂層體系。

      4、真空電鍍工藝比較節(jié)約金屬材料,由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能都相當優(yōu)良,沉積的鍍層可以遠遠小于常規(guī)濕法電鍍鍍層,可以有效節(jié)約金屬材料。

      5、不會造成環(huán)境污染,由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面,沒有溶液污染,所以對環(huán)境的危害相當小。

      6、真空電鍍工藝做出來的產品外觀精致,金屬質感強,亮度高.相對其他的鍍膜法來說,成本較低。

      由此可見,真空電鍍擁有很多優(yōu)點,雖然真空電鍍的金屬標牌比一般電鍍金屬標牌單價要貴一些,但是真空電鍍處理的金屬標牌具有良好的耐磨性,能通過各項摩擦測試,相對來說,一般的電鍍工藝處理的金屬標牌在耐磨性上要差一些,客戶可根據標牌用途和使用環(huán)境選擇合適的電鍍處理方式。


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